气氛回转炉 小型实验回转窑 气氛保护炉 广泛用于材料科学、冶金、化工等领域，提供特定气氛环境下的高温处理，以满足不同材料的烧结、热处理、化学反应等工艺需求。

高温管式炉 陶瓷烧结炉 新材料实验炉 高温管式炉，以电阻丝为发热元件，额定温度800℃，常期使用温度750℃以下，适用于材料科学、化学工程、物理研究及工业生产中，用于提供稳定的高温环境，合成新型材料，进行材料的热处理、热分析和物理性能测试等。

气氛管式炉 纳米陶瓷粉体烧结炉 新材料实验 纳米陶瓷粉体烧结炉能够提供高温、高真空或特定气氛环境，适用于纳米陶瓷材料的制备过程。通过控制烧结温度和气氛，可以制备出具有质量过硬的纳米陶瓷材料。

真空气氛炉 铁铜镍金属氧化炉 箱式真空炉 主要适用于如铁基、铜基、镍基等金属粉末，在真空气氛下可进行烧结，避免氧化，使粉末颗粒通过高温扩散等作用相互结合，形成致密的金属制品，用于制造机械零件、刀具等‌。

CVD旋转管式炉 纳米材料烧结炉 气氛回转炉 CVD旋转管式炉主要用于化学气相沉积（CVD）过程，这一过程涉及在气态前驱物在固体表面上进行化学反应，生成固态薄膜或涂层。其特点在于管式炉的旋转设计，这有助于确保沉积过程的均匀性。