扩散氧化退火炉是一种用于半导体器件制造的设备,其主要作用是在高温下进行氧化和退火等处理,以改善半导体器件的性能。
在扩散氧化退火炉中,半导体器件通过输送系统进入炉体中,在高温和特定气氛下进行处理。这些处理包括氧化、退火、掺杂等多个过程,可以改善半导体器件的性能和可靠性。
二、 炉体中的钨丝
炉体中的钨丝是扩散氧化退火炉的一个关键组成部分。在进行高温处理时,钨丝作为热源,提供必要的能量以确保处理温度的均匀性和一致性。
此外,钨丝还可以起到调控气氛的作用。在处理过程中,通过控制气氛中的成分和压力,可以对处理过程进行精确的控制和调整。钨丝作为炉体中的一个组成部分,需要具备良好的耐高温性和稳定性,以确保处理的精度和可靠性。
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