气氛管式炉 纳米陶瓷粉体烧结炉 新材料实验 纳米陶瓷粉体烧结炉能够提供高温、高真空或特定气氛环境，适用于纳米陶瓷材料的制备过程。通过控制烧结温度和气氛，可以制备出具有质量过硬的纳米陶瓷材料。

真空气氛炉 铁铜镍金属氧化炉 箱式真空炉 主要适用于如铁基、铜基、镍基等金属粉末，在真空气氛下可进行烧结，避免氧化，使粉末颗粒通过高温扩散等作用相互结合，形成致密的金属制品，用于制造机械零件、刀具等‌。

CVD旋转管式炉 纳米材料烧结炉 气氛回转炉 CVD旋转管式炉主要用于化学气相沉积（CVD）过程，这一过程涉及在气态前驱物在固体表面上进行化学反应，生成固态薄膜或涂层。其特点在于管式炉的旋转设计，这有助于确保沉积过程的均匀性。

气氛回转炉 粉体材料烧结炉 实验管式炉 气氛回转炉，主要适用于粉料、颗粒的动态烧结使物料受热更均匀、烧结时间缩短、能耗降低、品质更高等优点。

小型箱式气氛炉 1600℃马弗炉 新材料实验炉 可用于测试材料的热稳定性、抗氧化性、耐腐蚀性等性能，通过控制炉内温度和气氛，新材料实验炉可用于材料的合成与改性，如合成新型无机非金属材料、改性金属材料等。